Erste << >> Letzte Fördermaßnahme 333 von 924 | Bildende Kunst
Internationaler Senefelder-Preis und Lithografie-Förderung
Gründungsjahr: 1971/1975, Ort der Verleihung: Offenbach, Gesamtdotierung: 15.000 EUR
Internationaler Senefelder-Preis und Lithografie-Förderung - 2. Preis
| Fördermaßnahme: | 2. Hauptpreis |
| Zielgruppe: | Professionelle, Nachwuchs |
| Altersbeschränkung: | keine |
| Vergabe: | Sonstiges, nicht festgelegt |
| Reichweite: | International |
| Datenbank-ID: | 883 / 1234 |
 Dotierung: | 5.000 EUR |
| Verleihung: |
Termin: noch nicht bekannt. Weitere Aufwendungen: Urkunde/Emblem, Öffentl. Veranstaltung, Kostenerstattung |
Internationale Senefelder-Stiftung
c/o MAN Roland Druckmaschinen AG
Postfach: 10 12 64
63012 OffenbachTEL.: (069) 83 05 37 65
FAX: (069) 83 05 37 66
info [ät] senefelderstiftung.com
www.senefelderstiftung.com
Postfach: 10 12 64
63012 OffenbachTEL.: (069) 83 05 37 65
FAX: (069) 83 05 37 66
info [ät] senefelderstiftung.com
www.senefelderstiftung.com
Internationale Senefelder-Stiftung
Frau Sander
Postfach: 10 12 64
63012 Offenbach
TEL.: (069) 83 05 10 62
FAX: (069) 83 05 16 55
Frau Sander
Postfach: 10 12 64
63012 Offenbach
TEL.: (069) 83 05 10 62
FAX: (069) 83 05 16 55
Beschreibung
Zu Ehren von Alois Senefelder, dem Erfinder der Lithographie, schreibt die Internationale Senefelder-Stiftung diesen Wettbewerb aus, mit dem besondere Leistungen auf dem Gebiet der künstlerischen Lithographie und ihrer Weiterentwicklung im Flachdruck gewürdigt werden.
Internationaler Senefelder-Preis und Lithografie-Förderung - 2. Preis
Dieser Preis ist gestaffelt:
Internationaler Senefelder-Preis und Lithografie-Förderung - 1. PreisInternationaler Senefelder-Preis und Lithografie-Förderung - 2. Preis
Bewerbung / Teilnahmebedingungen
Bewerbung: Möglich 
Bewerbungsfrist: keine Angabe | Bewerbungssprache:deutsch,englisch
Teilnahmebedingungen:
Eingereicht werden können bis zu drei künstlerischen Arbeiten (ein- oder mehrfarbig) aus den Bereichen:
1. Lithographie (Arbeiten aus Stein); 2. Flachdruckzeichnungen (Arbeiten auf Metalloffsetplatten oder Folien); 3. Mischdrucke (Weiterentwicklung zu 1. und 2. einschließlich Kombination). Die Drucke können mittels Handpressen oder motorisch angetriebener Druckmaschinen hergestellt sein (nicht zugelassen sind fotomechanische und gerasterte Reproduktionen). Die Arbeiten dürfen nicht früher als drei Jahre vor der Ausschreibung entstanden sein. Den Arbeiten ist jeweils eine kurze Beschreibung der angewandten Arbeitstechnik beizufügen. Format der ungerahmten Arbeiten soll maximal 100 x 400 cm sein. Bewerbungsschluss ist die Jahresmitte.
Bewerbungsfrist: keine Angabe | Bewerbungssprache:deutsch,englisch
Teilnahmebedingungen:
Eingereicht werden können bis zu drei künstlerischen Arbeiten (ein- oder mehrfarbig) aus den Bereichen:
1. Lithographie (Arbeiten aus Stein); 2. Flachdruckzeichnungen (Arbeiten auf Metalloffsetplatten oder Folien); 3. Mischdrucke (Weiterentwicklung zu 1. und 2. einschließlich Kombination). Die Drucke können mittels Handpressen oder motorisch angetriebener Druckmaschinen hergestellt sein (nicht zugelassen sind fotomechanische und gerasterte Reproduktionen). Die Arbeiten dürfen nicht früher als drei Jahre vor der Ausschreibung entstanden sein. Den Arbeiten ist jeweils eine kurze Beschreibung der angewandten Arbeitstechnik beizufügen. Format der ungerahmten Arbeiten soll maximal 100 x 400 cm sein. Bewerbungsschluss ist die Jahresmitte.
Wer wählt aus?
Vergabe durch: Unabhängige Fachjury
Finanzierung
Träger/Stifter:
Stadt Offenbach a.M.
Internationale Senefelder-Stiftung
Stadt Offenbach a.M.
Internationale Senefelder-Stiftung
Spartenzuordnung
| Bildende Kunst > Druckgrafik | Hauptsparte |
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